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-显影光刻十步法：表面准备—涂光刻胶—软烘焙—对准和-—显影—硬烘焙—显影目测—刻蚀负胶：聚合物-后会由非聚合态变为聚合状态，形成一种互相粘结的物质，是抗刻蚀的，大多数负胶里面的聚合物是聚异戊二烯类型的，早期是基于橡胶型的聚合物；

正胶：其基本聚合物是-甲醛聚合物，也称为-甲醛novolak树脂，聚合物是相对不可溶的，在用适当的光能量-后，光刻胶转变成可溶状态平面-显影设计

一种光刻工艺的显影方法，包括：提供半导体晶片，在所述半导体晶片上具有光敏材料层；向所述光敏材料层喷洒显影液，使显影液布满整个光敏材料层表面；保持所述半导体晶片静止t时间或间歇性旋转所述半导体晶片，显影液与光敏材料层中的可溶解区域反应，使所述可溶解区域的光敏材料溶解；向所述光敏材料层喷洒去离子水，并旋转所述半导体晶片，使溶解有光敏材料的显影液和多余的显影液被甩出半导体晶片边缘之外；其中，在开始向所述光敏材料层喷洒去离子水时以及之后的60s内，所述半导体晶片的旋转速率小于或等于100rpm。本发明能够减少或消除半导体晶片表面的光刻胶残留的缺陷。平面-显影设计

-显影logo印刷方式及过程

种：丝印。丝印指的是丝网印刷。是将标志通过网孔把油墨漏印在纸张或者其他材质上。丝印的优点很多，在礼品标志印刷上的应该很广泛。丝印的特点有：可以在不同形状物品表面印刷，板块柔软不会损坏承印物，附着力强等等。

　　丝印的制作过程是：原稿***底版***丝网版***晒版***显影***干燥***印刷***检验***成品

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